引言
Introduction
在硅光芯片设计领域，上海工研院（SITRI）再创里程碑。上海工研院携手逍遥科技，已全面完成了Silicon Photonics PDK的开发，该PDK包含完整的紧凑模型库，涵盖了90nm SOI和180nm SiN两大硅光工艺平台，可实现从器件到片上系统的全流程仿真与设计。为广大用户带来了更完整、更高效的硅光芯片设计解决方案。
上海工研院与逍遥科技的合作，不仅体现了双方在硅光领域的技术实力，也展现了推动产业发展的共同愿景。为帮助用户深入了解SITRI PDK的应用，充分利用这一技术优势，提高设计效率，上海工研院与逍遥科技特举办线上培训交流会，时间定为2025年1月10日。培训内容将覆盖从基础的PDK使用到高级的系统仿真等多个层面，确保用户能够充分发挥平台潜力。
紧凑模型的优势
此次发布的紧凑模型分别基于上海工研院90nm SOI和180nm SiN工艺平台的实测数据构建，具有高度准确性和可靠性。模型库涵盖了两个平台的完整器件系列，包括：
- 90nm SOI平台：高性能硅基光电器件
- 180nm SiN平台：低损耗无源光学器件
对于无源器件，模型精确描述了其插损、透射率等关键参数；对于有源器件，则包含了带宽、响应度和暗电流等重要特性参数。这些特性参数均基于实测数据建模，确保了仿真结果与实际工艺表现的高度一致性。
1. 90nm SOI平台：高性能硅基电光调制器时域仿真
2. 180nm SiN平台：低损耗LSiN MZI频域仿真
设计流程的革新
用户可以通过逍遥科技的PIC Studio平台，特别是其中的pSim Plus仿真工具，轻松导入并使用这些紧凑模型。在实际应用中，设计人员可以：
- 直接导入工艺平台的Fab紧凑模型库
- 在pSim Plus环境中构建完整的仿真链路
- 进行专业的光电器件协同仿真
- 实现从器件到系统级的全流程验证
实际应用价值
这套紧凑模型的支持将给硅光设计带来显著优势：
- 工艺选择灵活：可根据应用需求选择合适的工艺平台
- 提高设计可靠性：基于实测数据的模型准确反映实际工艺特性
- 缩短设计周期：预先验证的模型库减少了反复流片的需求
- 降低设计风险：专业的仿真工具链确保设计结果可控
用户支持
逍遥科技将为使用该紧凑模型的用户提供全方位的技术支持，包括：
- 详细的技术文档
- 完整的器件使用指南
- 专业的技术咨询服务
- 定期的技术交流活动
线上培训
01
培训内容概览
本次培训由上海工研院与逍遥科技联合举办，旨在系统介绍PDK的功能特性与应用方法，帮助设计人员掌握完整的设计流程。现将相关事项通知如下：
一、培训内容
1. 上海工研院硅光流片平台最新工艺介绍（30分钟）
- SITRI PDK和紧凑模型的详细介绍
- 基于Fab实测数据的建模方法与验证
- 支持无源器件（插损、透射率）和有源器件（带宽、插损、响应度和暗电流等）的完整特性
- 主讲人：上海工研院 赵明月
2. 基于PIC Studio的PDK高效应用实操（30分钟）
- PhotoCAD代码部分演示：利用PDK黑盒进行版图设计
- ASDL展示：原理图生成版图的完整流程
- pSim Plus实操：结合PDK紧凑模型的系统仿真
- 主讲人：逍遥科技 韩雨辉
3. 技术交流与答疑（30分钟）
- 设计经验分享
- 常见问题解答
- 技术需求讨论
二、培训亮点
- 展示商用软件的设计优势
- 完整PDK支持，解压即用
- 黑盒模型应用，确保设计可靠性
- 高精度仿真，覆盖多种特殊情况
三、互动有奖
培训期间设有技术问答环节，积极参与者有机会获得精美奖品。