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四氟化硅传感器产品介绍

四氟化硅传感器是由四方光电自主研发的高性能气体传感器,产品基于非分光红外技术(NDIR),能够精确测量半导体等应用中产生的SiF4、WF6、CF4、SF6、NF3、CO2等气体,兼容机台内常见预留尺寸、法兰和通讯协议,适合半导体行业化学沉积设备、原子层沉积设备腔室的清洁终点监测。


四氟化硅传感器产品特性

使用NDIR技术,多气体监测支持(SiF4、WF6、CF4、SF6、NF3、CO2等气体)

响应时间快,高灵敏度

无耗材

模拟/数字通信

模块化设计,便于集成


四氟化硅传感器技术参数

检测原理NDIR
检测气体SiF4、WF6、CF4、SF6、NF3、CO2
量程1~264ppm(0~200mTorr)
重复性±0.5%
线性±1%F.S.
检测限1ppm





四氟化硅传感器 气体仪器技术参数

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检测原理 NDIR
检测气体 SiF4、WF6、CF4、SF6、NF3、CO2
量程 1~264ppm(0~200mTorr)
重复性 ±0.5%

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